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奥林巴斯MX63在工业应用的实拍

时间: 2021-01-20 11:11 编辑: 澳门新葡8455最新网站阅读:

奥林巴斯MX63显微镜特别适合尺寸最大300毫米的晶圆、平板显示器、电路板、以及其他大尺寸样品的高质量检测。其采用的模块化设计可让您根据需要选择组件,获得根据应用定制的系统。
奥林巴斯MX63工业应用实拍
这款符合人体工学设计且人性化设计的显微镜有助于在提高工作效率的同时保持使用者的工作舒适性。在与奥林巴斯Stream图像分析软件结合使用情况下,可以简化从观察到报告生成的整体工作流。MX63显微镜可用于各种反射光显微镜应用。此类应用可作为该系统在工业检测应用上的一些示例。 
红外(IR)可用于检查集成电路芯片和其他玻璃基硅制造器件的内部缺陷。
奥林巴斯MX63工业应用实拍 
薄膜(左:明场 / 右:偏光)
偏光可用于显示材料的纹理和晶体样貌。其非常适合检测晶片和LCD结构。
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硬盘
(左:明场 / 右:DIC) 
微分干涉差(DIC)用于帮助观察具有细微高度差异的样品。该技术非常适合用于检测诸如磁头、硬盘介质、以及抛光晶片等具有很小高度差的样品。
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半导体晶圆上的集成电路
(左:暗场 / 右:MIX(明场 + 暗场)
暗场是检测标本上细微划痕或缺陷以及晶片等镜面样品的理想工具。MIX照明可让使用者即可观察图形也可观察色彩。
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半导体晶片上的光致抗蚀剂残留物
(左:荧光 / 右: MIX(荧光 + 暗场)
荧光观察适用于使用专用滤色片立方照明时能够发光的样品。其可用于检测污染物和光致抗蚀剂残留物。MIX照明可实现光致抗蚀剂残留和集成电路图形的观察。
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LCD滤光片实拍
(左:透射光 / 右:MIX (透射光 + 明场)) 
这种观察技术非常适合诸如LCD、塑料以及玻璃材料等透明样品。MIX照明可实现滤色片颜色和电路图形的观察。
更多关于显微镜的实际应用可咨询我们。
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